CRF誠峰等離子體蝕刻機處理工藝關鍵在于2個方面的應用

• 分類：技術支持
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：低溫等離子設備生產廠家
• 發布時間：2022-02-20
• 訪問量：

【概要描述】CRF誠峰等離子體蝕刻機處理工藝關鍵在于2個方面的應用： 1.CRF誠峰等離子體蝕刻機表面處理：為了提高工具、模具等的性能，可以使用等離子體浸入金屬表面的氮、碳、硼、碳氮。該方式 的特點是，不是在表面入復蓋層，而是改變基體表面的材料結構及其性能。在處理過程中，工件溫度低，不使工件變形對精密零件很重要。該方式 可應用于各類金屬基體，關鍵有電弧放電氮、氮碳浸入、硼浸入。 2.等離子體在電子工業中的應用：大規模集成電路芯片的生產技術，過去采用化學方式，用等離子體方式 代替后，不僅降低了工藝中的溫度，還將涂膠、顯影、腐蝕、除膠等化學濕法改為等離子體干法，使技術更加簡單，實現自動化CRF誠峰等離子體蝕刻機用于材料表面改性，主要包括以下2個方面： ①CRF誠峰等離子體蝕刻機改變潤濕性(也稱為潤濕性)。有機化合物表面的潤濕性對顏料、墨水、粘合劑等的粘結性、材料表面的閃光電壓和表面泄漏電流等電氣性能有很大影響。測定潤濕性的量稱為接觸角。 ②CRF誠峰等離子體蝕刻機增強附著力。用等離子體活化氣體處理一些聚合物和金屬后，可以增強材料和粘合劑的結合強度。原因可能是聚合物表面的交聯增強了邊界層的附著力；或者在等離子體處理過程中引入偶極子，提高了聚合物表面的附著強度；也可能是等離子體處理消除了聚合物表面的污垢，改善了附著條件。電暈處理也有同樣的效果。