crf等離子體表面處理設備與催化反應共同作用機制初步探討

• 分類：公司動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：低溫等離子設備生產廠家
• 發布時間：2022-03-08
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【概要描述】crf等離子體表面處理設備與催化反應共同作用機制初步探討： ???? ? ?crf等離子體表面處理設備與多種催化反應作用下CO2氧化甲烷制C2烴現象的分析結果顯示：plasma等離子體與催化反應共同作用機制與單純等離子體或普通催化活化作用機制不同，單純crf等離子體表面處理設備作用下的CO2氧化甲烷轉化現象為自由基歷程，目的產物選擇性較低；催化反應在低于80℃下均未顯示催化活性。在等離子體中引入催化反應，催化反應通過吸附作用吸附反應物、自由基參與表面反應，反應反應物轉化率和產物收率；在催化過程引入crf等離子體表面處理設備，等離子體為催化反應活化提供必需的能量之外，還將對反應物吸附、表面反應和產物解析過程產生直接和間接反應。依據實驗工作結果，等離子體與催化反應共同作用表現在如下2個方面: ????（1）crf等離子體表面處理設備持續不斷活化催化反應。等離子體中有大量高能粒子，這些高能粒子主要通過碰撞將能量傳遞于催化反應，活化催化反應。因此即使在較低的實驗溫度（低于100℃）下，實驗所分析的催化反應依然顯示出較高的催化活性。 ????（2）催化反應對crf等離子體表面處理設備放電狀態產生一定反應，催化反應種類不同，反應不同。Marafee等分析了電暈放電等離子體中，帶有OH基團的金屬氧化物催化反應對甲烷氧化偶聯反應的反應，結果顯示：帶有OH基團的催化反應可增強氣體放電作用而導致甲烷轉化率和C2烴收率明顯提高。研究表明：催化反應的堿性有利于C2烴生成。