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          專業致力于提供電子行業的制造設備及工藝流程解決方案的plasma等離子體高新技術企業
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          手機外殼表面清洗工藝等離子體發生器發展趨勢
          手機外殼表面清洗工藝等離子體發生器發展趨勢: ? ? ? ?隨著生活節奏的加速,手機已經成為人們日常生活中不可或缺的角色。據相關數據統計表示,我國手機的每年產量已經達到1.7億部,而且其市場規模仍有擴大的趨勢。手機市場需求的多樣化、個性化、人性化、健康化和功能化,手機的外殼裝飾成為一大賣點,而涂料在手機外殼方面的作用受到重視。各手機生產企業,特別是名牌產品企業,無不爭先恐后地不斷推出以外殼涂料為奪人眼球的新技術。 ? ? ? ?等離子體發生器不僅可以清洗塑料、金屬、玻璃以及陶瓷等材質還可以清洗手機外殼表面的有機物。例如: 等離子體發生器清洗手機外殼表面的有機物,能大程度的活化這些材料的外殼表面,增強其印刷、涂覆等粘接效果,使得外殼上涂層與基體之間非常牢固地連接,涂覆效果非常均勻,外觀更加亮麗,并且耐磨性大大增強,長時間使用也不會出現磨漆現象。 ? ? ? ?手機天線的粘接是在兩種以上不同材料之間實現的,通常是在基體表面涂覆膠水再粘上FPC固化而成。當基體表面有臟污或者表面機能比較低時,粘接的可靠性就得不到保證,會出現分層或開裂現象。借助等離子體工藝可以清洗和活化基體表面,改善粘接性能,提高可靠性。 ? ? ? ?手機屏幕一般都會在表面鍍各種膜層,有的是為了增加光透過率;有的會刷AF膜(俗稱防指紋膜,實際防指紋效果大多一般)以增加疏水疏油性能。有的材料本身表面光滑或材料表面有污染物導致很難在其表面鍍膜,或者鍍膜后很快會脫落,就像在生銹的鐵上刷漆很容易脫落一個道理。這個時候許多廠家就會使用等離子體發生器來增加材料表面的粗糙程度和去除表面雜質來達到更好的鍍膜效果,就像我們要用砂紙把鐵銹擦掉再刷漆。
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          三大工藝闡述CRF等離子火焰處理機的表面處理工藝
          三大工藝闡述CRF等離子火焰處理機的表面處理工藝: ? ? ? ?表面處理是指在基材表面人工地生成一層與基材具有不一樣機械、物理和化學性質的表層。表面處理技術的目的是達到產品耐腐蝕,耐磨損,裝飾等特殊性能的要求。那樣原材料表面處理工藝都有什么? 一、噴涂之前的等離子火焰處理機處理技術: ? ? ? ?為去除物體表面附著的各種異物(如油污、銹蝕、灰塵、舊漆膜等),提供一種很好的基底,滿足噴涂要求,確保涂層具有良好的防腐蝕性能、裝飾性和某些特殊功能,必須在涂層前對物體表面進行預處理。進行這類處理的工作,人們通常將其統稱為噴涂前(表面)處理或預處理(表面)。 二、手工操作等離子火焰處理機工藝技術: ? ? ? ? 例如刮刀,鋼絲刷,砂輪等。人工處理能清除工件表面的銹蝕和氧化層,但人工處理勞動強度大,生產效率低,質量差,清理不徹底。 三、化學加工等離子火焰處理機技術: ? ? ? ? 酸性或堿性溶液與工件表面的氧化物和油發生化學反應,溶解在酸性或堿性溶液中,以去除工件表面的腐蝕、氧化皮膚和油污,然后用尼龍刷輥或304#不銹鋼絲(耐酸堿溶液)清洗?;瘜W方法主要用于對薄板進行清理,但其缺點是:如果時間控制不合理,即使添加了防腐劑,也會使鋼產生過蝕現象,對于比較復雜的結構件和有孔的零件,用酸性溶液酸洗后,浸入縫隙或孔穴中的余酸很難完全清除,如果處理不當,就會成為工件日后腐蝕的隱患,且化學物易揮發,成本高,化學物處理后排放很難,如果處理不當,就會對環境造成嚴重污染。
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          低溫等離子發生器可除去有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微粒污染物等
          低溫等離子發生器可除去有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微粒污染物等: ? ? ? ? CRF低溫等離子發生器處理后很有可能應是材料本身的特性、處理后遭到二次污染、又發生化學反應等原因,處理后表面能保留的時間不好確定。經過CRF低溫等離子發生器處理達到較高表面后,馬上進行下一道工藝,防止表面能衰減帶來的影響。 ? ? ? ?CRF低溫等離子發生器表面改性是控制表面的有效方式,基材的能量和化學性質不影響散裝材料。等離子體是電離氣體的狀態稱為“第四物質狀態”,由反應性顆粒組成例如電子,離子和自由基。等離子體和固體相互作用可以大致分為三個子類別:等離子體蝕刻或清潔,其中材料從表面去除;等離子體活化,其中表面物理或化學改性通過等離子體中存在的物質和;等離子體涂覆,其中材料在表面上以薄膜的形式沉積。根據在等離子體產生的條件下,等離子體可以分為真空或大氣等離子體。低溫等離子發生器處理廣泛用于例如微電子學應用程序,但在線過程需要大氣方法。 ? ? ? ?去除的污染物可能是有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等。實際上,低溫等離子發生器通過對樣品進行表面改性,同時去除表面有機物,使各種材料可以進行粘接、涂布等工藝操作。廣泛應用于光學、光電子、電子、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微流體等領域。
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          等離子清洗設備蝕刻玩具表面.激活.接枝.聚合等功能
          等離子清洗設備蝕刻玩具表面.激活.接枝.聚合等功能: 1.在CRF等離子清洗設備濺射材料表面,顯微鏡下粗糙度增大; 2.在等離子體的作用下,表面活化難以粘在塑料表面.自由基和不飽和鍵,這些活性基團與等離子體中的活性粒子接觸,產生反應,產生新的活性基團。易于噴涂和打??; 3.等離子清洗設備改性材料表面時,等離子體中的活性分子對表面分子的影響導致表面分子鏈斷裂,產生新的自由基.雙鍵等活性基團,導致表面交聯.接枝等反應; 4.使用等離子體活性氣體時,表面聚合會在材料表面產生沉積層,沉積層的存在有助于提高材料表面的附著力; 5.采用干法處理,無污染,無廢水,符合環保要求;并取代傳統的磨邊機,消除紙粉紙毛對環境和設備的影響; 6.處理后,可用普通膠水粘合箱體,降低生產成本。 ? ? ? ? 我們的等離子清洗設備可以解決這些問題。在這種情況下,許多研發機構也感受到了問題的嚴重性,并投入了大量資金引進了等離子清洗設備的表面處理技術。我相信我們的電漿清潔器很快就會有一個新的世界,為全球工業產品創造新的價值和更好的服務。
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          鈦元素材料用等離子體發生器活化可引入鍵合的活性基團氨基
          鈦元素材料用等離子體發生器活化可引入鍵合的活性基團氨基: ? ? ? ?鈦及鈦合金具有密度小、彈性模量低、抗腐蝕性好、生物相容性好等優勢,近幾年來在生物植物中得到了廣泛的應用。只不過,鈦植物仍然缺乏骨誘導,與周圍組織的結合強度低,愈合時間長。等離子體發生器等離子體濺射、等離子體注射和化學處理格外重視提高材料的生物活性。 ? ? ? ?氨基是生物體內主要的有機官能團之一,氨基引人材料表面可為某些生物大分子進行表面固定提供活性位點,它是金屬材料生物化和智能化的重要基礎。采用射頻等離子處理機等離子體處理鈦片,接上氨基后,再使用戊二醛交聯接人白蛋白,結果表明改性鈦片可促進成骨細胞的生長和阻止血栓的形成。 ? ? ? ?純鈦表面可引入低溫等離子體發生器,以化學鍵合的形式結合氨基,相對穩定。采用射頻輝光放電等離子體對純鈦進行表面改性,結果表明鈦表面存在鍵合較為穩定的氨基。種植體表面親水性是影響種植體骨結合以及細胞黏附的重要因素之一,因此保持材料表面親水性非常重要。等離子體發生器技術用于N2和NH3混合氣體是純鈦表面氨基化改性的氣體源,在純鈦表面吸引氨基,提高材料表面的生物活性。
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          納米粉末納米材料的活化用CRF等離子體清潔機有著獨有的效果
          納米粉末納米材料的活化用CRF等離子體清潔機有著獨有的效果: ? ? ? ?氧化鉍是一類重要的功能性粉末材料,主要應用于無機合成、工業陶瓷、化學試劑等領域,主要用于制造瓷介質電容器,也可用于制造壓電陶瓷、壓敏電阻等工業陶瓷元件。鑒于納米氧化鉍粒度較細,除通常粒度氧化鉍粉的性質和用途外,還可用于電子材料、超導材料、特殊功能陶瓷材料、陰極射線管內壁涂料等對粒度有特殊要求的場合。 ? ? ? ? 因此,對納米Bi:O3制備方法及應用的探索已引起了國內外研究人員的廣泛興趣。制備納米Bi20,方法大致有固相反應法、沉淀法、噴霧燃燒法、溶膠-凝膠法等,這些方法已取得良好的效果,但仍存在一些局限性:噴霧燃燒法制備的納米氧化鉍粒徑不均勻且對設備要求較高;化學法生產的納米氧化鉍易團聚,鑒于生產過程中使用了堿液,不可避免的帶入了堿金屬或堿土金屬離子,影響氧化鉍的純度。 ? ? ? ? ?CRF等離子體清潔機的活性大,它是處于電離狀態的氣態物質,是一類氣相的化學反應。等離子體是純凈氣體電離產生的,有利于制備高純度的粉體。鑒于等離子表面處理機等離子體的溫度梯度大,所以容易得到高飽和度,也很容易實現快速淬冷,得到高純的納米粉末。與液相法相比,一般情況下氣相法制備的粉體產品純度高、表面清潔、結晶組織好、環境污染少,因而在制備鉍納米粉體時,使用氣相法更為有利。 ? ? ? ? 用CRF等離子體清潔機等離子體法制備納米粉末有許多用其它方法所不具備的優點。等離子體是熱源,以普通微米納米氧化鉍粉為原料,通過選擇合適的功率和進料量,成功制備了17個中間粒徑的粉末.5nm,比表面積為47.73m/g正方晶系納米BizO3粉末;納米氧化鉍純度高,結晶組織好。
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