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          4D智能集成等離子處理系統 CRF-APO-IP-XXHD
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          4D智能集成等離子處理系統 CRF-APO-IP-XXHD

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          CRF-APO-IP-XXHD
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          產品概述
          參數
          設備參數

          產品概述

          單個處理系統可攜帶24個各種類型等離子噴槍,全網絡匹配、智能集成一體化,具有更節省的空間、更多種類型的應用,具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環境。


          產品特點

          ● 可In-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本; 

          ● 使用壽命長,保養維修成本低。


          應用范圍

          主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;國防工業的航空航天電連接器表面清洗;通用行業的絲網、印刷、轉移印刷前處理等。

           

          等離子清洗系統在低溫下具有幾種作用:等離子表面處理改性、接枝聚合和沉積聚合。所謂表面改性,是指改變原料表層或薄層的活性和離子注入,一般稱為減量處理法。因為低溫等離子體的動能(達到20ev)遠遠高于有機化學中的化學鍵能(10ev),所以它非?;钴S。當處理纖維有機物質時,所處理的原料表面的化學纖維極易破裂,從而提高化學纖維或紡織材料的親水性、耐磨性、抗污染性及著色性能。等離子技術接枝聚合用于激活表層,引入特活性官能團,然后用接枝法將原表層的幾個特異性碳鍵連接起來,生成新的表層。沉淀聚合是指按照加工工藝標準,在處理過程中表面形成等離子形態的有機物。


          在低溫等離子清洗系統管理體系中,電子溫度只高于低溫等離子處理系統中的正離子和中子溫度,而重粒子溫度不高,因此不適用于某些納米復合材料表面層。低溫等離子體處理是會在高聚物原料表層引入大量的作用官能團,例如,利用各種非高分子汽體(O2、H2、Ar)在原材料料表層生成具有改變高聚物原料表層特性的-OH等官能團。使用外部工作電壓時,會使稀有氣體(N2、O2、CO等)的分子結構穿透,將-OH、-NH2官能團正離子和分子引入原材料的表層,或者直接使材料表面形成氧自由基。新引入氧自由基還可通過離子鍵連接到原料表層的某些分子結構,使聚合物具有新的表層特性。等離子體表面處理技術通常用于表面疏水性、相溶性、活化改性等。


          等離子表面處理機(也叫等離子清洗機),采用低溫等離子處理系統,對產品不會造成損傷,而且低溫等離子體廣泛應用于塑料金屬材料的表面機械性能的改變,如材料的磨損、硬度、摩擦、疲勞、耐腐蝕等。

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          名稱(Name)

          4D智能集成等離子處理系統

          型號(Model)

          CRF -APO-IP-XXHD

          電源(Power supply)

          220V/AC,50/60Hz

          功率(RF Power)

          800W*4set/ 25KHz

          功率因素(Power factor)

          0.98

          等離子噴槍數量(Number of plasma guns)

          4(Max)

          處理高度(Processing height)

          5-15mm

          內部控制模式(Internal control mode)

          數字控制

          外部控制模式(External control mode)

          RS485/R5232.模擬通訊口、啟停I/O

          工作氣體(Gas)
           

          Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)

           

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